Обзор обработки поверхности TiO2
Под обработкой поверхности понимается покрытие одного или нескольких слоев неорганических или органических веществ на поверхности частиц пигмента диоксида титана с помощью различных средств и процессов обработки поверхности с целью устранения присущих диоксиду титана дефектов или изменения свойств поверхности. его частиц и улучшить его атмосферостойкость, диспергируемость и другие свойства применения.
Обработка поверхности диоксида титана осуществляется в основном с помощью теории изоэлектрической точки и теории стабильности с использованием осаждения, адсорбции, ионного обмена, ковалентной связи и реакции прививки полимера для модификации поверхности диоксида титана, результат модификации включает только изменение поверхности. изменение заряда, площади поверхности, с целью компенсации фотохимической активности дефектов диоксида титана, улучшения атмосферостойкости и долговечности диоксида титана, улучшения его смачиваемости в различных средах и диспергируемости.
Обработка поверхности не меняет кристаллическую структуру, размер частиц, гранулометрический состав и цвет диоксида титана (который контролируется процессом окисления).
На поверхности чистого TiO2 имеются дефекты решетки, что создает множество точек фотоактивации на поверхности частиц TiO2, причем точки фотоактивации очень активны под действием ультрафиолетового света. Чем мельче частицы TiO2, тем больше точек фотоактивации, тем хуже устойчивость к атмосферным воздействиям.
Необработанный диоксид титана, чьи обожженные частицы очень малы, имеет высокую удельную поверхностную энергию, крайне нестабилен, при высоких температурах быстро агломерирует, образуя субстабильные более крупные частицы, для TiO2, чем мельче частицы, тем сильнее гравитационная сила между частицами. , частицы с большей вероятностью агломерируются
Чтобы улучшить стойкость к атмосферным воздействиям и химическую стабильность TiO2, а также улучшить дисперсию TiO2 в различных средах, к TiO2 обычно применяется поверхностная обработка. Обработка поверхности заключается в формировании однородной пленки на поверхности частиц TiO2 для блокирования точки фотоактивации TiO2 и повышения устойчивости к атмосферным воздействиям.
